真空技術を基盤とする真空総合メーカーで、半導体・電子部品製造装置（スパッタリング装置、CVD装置、エッチング装置等）や真空ポンプ・真空計等のコンポーネントを主力とする真空機器事業と、スパッタリングターゲット材料や分析装置（X線光電子分光分析装置等）を扱う真空応用事業を展開。2031年6月期目標として売上高3,600億円、営業利益790億円、営業利益率22%、ROE16%を設定し、半導体電子関連ビジネスの売上高構成比60%以上を目指す方針。新中長期経営計画「バリューアッププラン」に基づく半導体製造装置事業と電子部品製造装置事業の各受注1,000億円以上目標、モジュラーデザイン推進による製造リードタイム短縮、低採算事業の縮小・撤退による収益基盤強化。